金融界2025年1月20日音问，国度学问产权局信息暴露开云kaiyun中国官方网站，上海新微时刻研发中心有限公司请求一项名为“一种在深硅刻蚀中保护阳极键合名义的步骤”的专利，公开号CN 119263202 A，请求日历为2024年9月。

专利选录暴露，本发明提供一种在深硅刻蚀中保护阳极键合名义的步骤，包括：提供一个晶圆，在所述晶圆名义瓜代酿成保护层和顽抗层；旁边光刻和刻蚀工艺将所述顽抗层和所述保护层图形化；以图形化的顽抗层为刻蚀掩膜，通过深硅刻蚀工艺制备出所需的结构；旁边干法刻蚀工艺去除所述顽抗层，旁边干法去胶工艺去除所述保护层。通过在键合名义和深硅刻蚀中的刻蚀顽抗层之间加多一层易去除的保护层，则在后续干法刻蚀去除顽抗层时，通过键合名义上保护层的存在，可迂腐键合名义因为离子轰击导致的毛糙度变高的问题。

天眼查府上暴露，上海新微时刻研发中心有限公司，配置于2013年，位于上海市，是一家以从事征询和考试发展为主的企业。企业注册本钱144416万东说念主民币，实缴本钱144416万东说念主民币。通过天眼查大数据分析，上海新微时刻研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标名目467次，学问产权方面有商标信息49条，专利信息658条，此外企业还领有行政许可22个。

本文源自金融界